AFM應用-雙頻共振追蹤(DFRT)
應用說明:
雙頻共振追蹤 Dual-Frequency Resonance Tracking(DFRT)是一種接觸模式原子力顯微鏡(AFM) 技術,用於測量樣品中微弱的電響應或機械響應訊號。
傳統的共振追蹤技術依賴於鎖相迴路(PLL) 來保持相位恆定,但對於像鐵電材料(ferroelectric materials) 或其他具有相位反轉(phase reversal) 特性的材料,PLL 方法會失效,因為不同的區域會導致相位反轉。
DFRT 的優勢在於,它僅使用共振幅值(resonant amplitude) 作為回授信號(feedback),即使樣品有相位反轉,也能精準追蹤共振頻率。
DFRT 技術常用於以下應用:
- 壓電響應力顯微鏡(PFM)
- 電化學應變顯微鏡(ESM):對 離子電流引起的應變 特別敏感
- 掃描熱離子顯微鏡(STIM):測量由熱振盪引起的應變
DFRT 對於鐵電薄膜(ferroelectric thin films) 及多鐵性材料(multiferroic materials) 的表徵尤其重要。共振增強測量可檢測到更微弱的信號,並允許使用更低的極化電壓,從而避免薄膜擊穿。在塊體材料研究中,通常會在低頻下進行鎖相測量,而對於奈米尺度的機械響應,DFRT 的接觸共振技術可顯著提高靈敏度。
量測方法:

第一步是識別接觸共振(CR),方法是當 AFM 探針與樣品接觸時,掃描由電激發或機械激發的輸出頻率。
接著,可以在訊號輸出端產生振幅調變訊號(AM),在接觸共振點兩側形成兩個邊帶振幅 A1 和 A2。在圖中,紅色曲線顯示了 A2 - A1 隨驅動頻率變化的關係:該差值在共振附近呈現單調變化,且具有良好的增益靈敏度,因此可作為回授信號(feedback)。
Zurich Instruments 鎖相放大器內建的 PID 控制器(可透過 PID Advisor 進行最佳化)會調整在頻率 fc ± fm 處測得的邊帶振幅差 A2' - A1'。這個振幅差被作為 PID 控制器的誤差信號(error signal),用來調整中心頻率 fc。
當由於探針與樣品之間的交互作用導致共振頻率改變時,測得的振幅差 A2' - A1 會發生變化,PID 控制器因此調整驅動頻率,保持追蹤共振,如圖所示。在共振點上,A1 和 A2 相等,因此設定的目標值(setpoint)為 零。
在多鐵性材料(multiferroic)測量及相關的 PFM 模式中,驅動訊號輸出會直接加到偏壓電壓(bias voltage)。若訊號輸出端連接至與樣品機械耦合的壓電驅動器(shaker piezo),則可觀察到樣品的奈米機械響應。
標準PFM 與DFRT-PFM 比較:
| 評估項目 | 標準PFM | DFRT-PFM (HF2LI/UHFLI) |
| 偏壓調變頻率 | 100Hz~kHz |
高達50MHz (HF2LI) or 600MHz (UHFLI) |
| 頻率追蹤 | 無(靜態固定頻率) | 動態追蹤共振頻率,用於鎖相參考 |
| 頻率生成能力 | 最多2個頻率 | 最多6個頻率或2個接觸共振(CRs) |
| 鎖相測量 | 僅單一鎖相:測量幅值與相位 |
同時測得中心頻率、邊帶幅值/相位、 PID誤差、頻率偏移 |
| 回授訊號 | 無(開環) | A2-A1 邊帶差值,透過PID Advisor 最佳化 |
| 驅動頻率選擇 | 手動調節、固定頻率 | 自動保持在共振頻率,SNR更高 |
產品亮點:

UHFLI – 600 MHz 鎖相放大器
- 2× DC–600 MHz,12-bit 高速輸入
- 最多 4 路平行 PID/PLL 閉迴路(需選購 UHF-PID)
- PID Advisor 與 Auto-Tune 自動優化控制迴路
- 最多同時解調 8 個諧波或頻率
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HF2LI – 50 MHz 鎖相放大器
- 2× DC–50 MHz,14-bit 輸入
- 最多 4 路平行 PID + 2 路 PLL(需選購 HF2-PID/HF2-PLL)
- PID Advisor 與 Auto-Tune 提升回授精度
- 最多同時解調 6 個諧波或頻率
選擇 Zurich Instruments 的優勢:
- 雙模激發、邊帶檢測、PID 回授,皆可透過同一台鎖相放大器完成。
- HF2LI 可同時測量 平面內與平面外響應,完整解析 壓電向量場(大小、方向、極性)。
- 共振增強技術 提升靈敏度,即使在無法使用 PLL 的情況下也能應用。
- 可直接加裝於第三方 AFM,只需可存取探針偏壓與感測器訊號即可。
- 可同步擷取內部多通道資料並輸出影像,結合 DAQ 模組 與 掃描引擎 EOL 觸發。
- 可量測 高次諧波,對離子電流、熱致應變等響應更靈敏。
- 自動追蹤共振頻率,降低地形效應交叉干擾,特別適合高表面粗糙度樣品。
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